| 发明名称 |
Method and apparatus for depositing a photoresist layer on a substrate |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0841593(B1) |
申请公布日期 |
2000.08.16 |
| 申请号 |
EP19970117703 |
申请日期 |
1997.10.13 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
WEIDMAN, TIMOTHY;SUGIARTO, DIAN |
| 分类号 |
C23C16/509;G03F7/38;B05D7/24;C23C16/30;G03F7/075;G03F7/16;H01L21/02;H01L21/027;H01L21/31;(IPC1-7):G03F7/16 |
主分类号 |
C23C16/509 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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