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发明名称
Photosensitive resin composition and photosensitive element using the same
摘要
申请公布号
EP0738927(B1)
申请公布日期
2000.08.16
申请号
EP19960302638
申请日期
1996.04.16
申请人
HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD.
发明人
ICHIKAWA, TATSUYA;CHIBA, TATSUO
分类号
C08F265/04;G03F7/027;(IPC1-7):G03F7/027
主分类号
C08F265/04
代理机构
代理人
主权项
地址
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