| 主权项 |
1. 一用于在一晶圆上形成一超平高反射性的方法,包括步骤如下沉积一介电层在一晶圆表面;使用化学机械研磨过程(chemical-mechanicalpolishing process)来平整该介电层;使用一可固化的材料形成具有一超平坦之表面的一液态层,于经过该化学机械研磨过的该介电层上;固化该液态层使之被硬化;沉积一反射层于该已硬化的液态层上,以得到超平向反射之表面。2. 如申请专利范围第1项所述的用于在一晶圆上形成一超平高反射性的方法,其中该可固化材料系一旋涂式玻璃(spin-on-glass)。3. 如申请专利范围第1项所述的用于在一晶圆上形成一超平高反射性的方法,其中该可固化材料系一高分子聚合体溶液(polymer solution)。4. 如申请专利范围第1项所述的用于在一晶圆上形成一超平高反射性的方法,其中更包括了在一气态电浆蚀刻器(gas plasma etcher)中将该已硬化的液态层蚀回至一所要的厚度之步骤。5. 如申请专利范围第4项所述的用于在一晶圆上形成一超平高反射性的方法,其中该蚀回的步骤系使用一电浆源来进行,该电浆源于该可固化材料及该介电层之间的一蚀刻选择率(etching selectivity)是1。6. 如申请专利范围第1项所述的用于在一晶圆上形成一超平高反射性的方法,其中该介电层系一多层结构(multi-layered structure)。7. 如申请专利范围第6项所述的用于在一晶圆上形成一超平高反射性的方法,其中该多层结构包括至少一层该可固化材料的超平坦的材料。8. 如申请专利范围第1项所述的用于在一晶圆上形成一超平高反射性的方法,其中该液态层系藉由将该晶圆浸入包含有该可固化材料的一液态溶液(liquid bath)中所形成。9. 如申请专利范围第1项所述的用于在一晶圆上形成一超平高反射性的方法,其中该液态层系藉由将该晶圆浸入包含有该可固化材料的一液态溶液中所形成。10.如申请专利范围第1项所述的用于在一晶圆上形成一超平高反射性的方法,其中该反射层系一铝层。11.如申请专利范围第10项所述的用于在一晶圆上形成一超平高反射性的方法,其中该铝层系使用一优于6N等级的一超高纯度的铝成合金靶材,并在一低于25℃,且抽真空至低于10^|-^|8 torr 之高真空之后再进行之一溅镀条件(sputtering condition)之下,并在一沉积率(deposition rate)小于100 nm/min之下来形成在该已硬化的液态层之上。12. 一个应用于光电积体电路的超平高反射性微镜,其包括有一基材,一积体电路,一介电层,一已硬化之液态表面及一反射表面,其中该微镜系藉包括有如下步骤的一制程而形成:沉积一介电层于一晶圆表面;使用一可固化的材料去形成具有一超平坦之表面的一液态层于经过该化学机械研磨过的该介电层上;固化该液态层使之被硬化;沉积一反射层于该已硬化的液态层上。13. 如申请专利范围第12项所述的超平高反射性微镜,其中该可固化材料系一旋涂式玻璃(spin-on-glass)。14. 如申请专利范围第12项所述的超平高反射性微镜,其中该可固化材料系一高分子聚合体溶液(polymersolution)。15. 如申请专利范围第12项所述的超平高反射性微镜,其中更包括了在一气态电浆蚀刻器(gas plasma etcher)中将该已硬化的液态层蚀回至一所要的厚度之步骤。16. 如申请专利范围第15项所述的超平高反射性微镜,其中该蚀回的步骤系使用一电浆源来进行,该电浆源于该可固化材料及该介电层之间的一蚀刻选择性(etchingselectivity)是1。17. 如申请专利范围第12项所述的超平高反射性微镜,其中该介电层系一多层结构(multi-layered structure)。18. 如申请专利范围第17项所述的超平高反射性微镜,其中该多层结构包括至少一层该可固化材料。19.如申请专利范围第12项所述的超平高反射性微镜,其中该液态层系藉由将该晶圆浸入包含有该可固化材料的一液态溶液中所形成。20. 如申请专利范围第12项所述的超平高反射性微镜,其中该液态层系藉由将该晶圆浸入包含有该可固化材料的一液态溶液中所形成。21. 如申请专利范围第12项所述的超平高反射性微镜,其中该反射层系一铝层。22. 如申请专利范围第12项所述的超平高反射性微镜,其中该中该铝层系使用一优于6N等级的一超高纯度的铝靶材,并在一低于25℃,且低于10^|-^|8 torr 之真空之一溅镀条件(sputtering condition)之下,并在一沉积率(deposition rate)小于100 nm/min之下来形成在该已硬化的液态层之上。 |
