| 主权项 |
1.一种固定盘,其为一种提供作为基准面之固定盘( 10),包含:作为基础之一石材(11)、及 于该石材(11)之至少一部份表面上的具有一定表面 精确度之由陶瓷材料所得之熔解喷涂材料 所形成之一层(13)。2.如申请专利范围第1项之固定 盘,其中,所述陶瓷之平均粒径为5-60m,且维氏硬 度値 为1000-1200。3.如申请专利范围第1项之固定盘,其中 ,所述层(13)之表面精确度以表示中心线平均粗度 之Ra値表示时为0.1-0.6m。4.如申请专利范围第1项 之固定盘,其中,所述石材(11)具有于其上方所形成 之一凹处(12) ,且所述层(13)系配置于该凹处(12)内。5.如申请专 利范围第4项之固定盘,其中,所述层(13)之厚度可与 所述凹处(12)之深度同或 更高。6.如申请专利范围第1项之固定盘,其中,所 述层(13)之系突出于石材(11)之上表面。7.如申请专 利范围第1项之固定盘,其中,所述陶瓷为灰铝土。8 .如申请专利范围第4项之固定盘,其中,所述石材(11 )包含贝尔发黑石、拉司丁石、古努 尔石、辛巴威石、印度黑石等之黑色花冈岩或花 冈岩等天然石材、或人工石材。9.一种固定盘之 制造方法,其为一种提供作为基准面之固定盘(10) 的制造方法,包含:将具 有一定形状之石材进行脱脂洗净之一步骤、及于 所述石材(11)之至少部分表面上形成层(13) 并使用由陶瓷材料所得之熔解喷涂材料进行熔解 喷涂之一步骤、及将所述层(13)表面进行研 磨之一步骤。10.如申请专利范围第9项之制造方法 ,其中所述研磨步骤包含使用平面研削盘进行之一 研削 步骤、及一抛光修饰步骤。11.如申请专利范围第9 项之制造方法,其中所述研磨步骤系使所述层(13) 之表面粗度依表示 中心线平均粗度之Ra値时为0.1-0.6m。12.如申请专 利范围第9项之制造方法,其中所述熔解喷涂步骤 中,包含先将所述石材予以预 热之一步骤。13.如申请专利范围第9项之制造方法 ,其中所述熔解喷涂步骤系使用气体电浆熔解喷涂 法进 行,该气体电浆熔解喷涂法包含:将所述熔解喷涂 材料与载气同时送入电浆之一步骤、及于 电浆中形成熔融或近乎熔融之一步骤、及将近乎 熔融之熔解喷涂材料喷付于所述石材之一步 骤。14.如申请专利范围第13项之制造方法,其中所 述载气可为氢气与氩气之混和气体、氦气或 氮气。图式简单说明: 第一图:实施形态中具有熔解喷涂层之固定盘形态 斜视图 第二图:第一图中2-2线之截面图 第三图:气体电浆熔解喷涂法之截面图 |
