Verfahren zur Verwendung eines Rasterkraftmikroskops das die Reinigung des Mikroskops oder des Taststifts in der Umgebungsluft erlaubt,申请号DE1996607231T-传众专利搜索

发明名称	Verfahren zur Verwendung eines Rasterkraftmikroskops das die Reinigung des Mikroskops oder des Taststifts in der Umgebungsluft erlaubt
摘要
申请公布号	DE69607231(T2)	申请公布日期	2000.08.10
申请号	DE1996607231T	申请日期	1996.01.31
申请人	RYODEN SEMICONDUCTOR SYSTEM ENGINEERING CORP., ITAMI;MITSUBISHI DENKI K.K., TOKIO/TOKYO	发明人	NISHIOKA, TADASHI;YASUE, TAKAO
分类号	G01B7/34;G01N1/00;G01N27/00;G01N37/00;G01Q10/06;G01Q30/08;G01Q30/20;G01Q40/00;G01Q40/02;G01Q60/10;G01Q60/16;G01Q60/24;G01Q80/00;G01Q90/00;G02B21/00;H01J37/28;(IPC1-7):G01B7/34	主分类号	G01B7/34
代理机构		代理人
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