首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Verfahren zur plasmaunterstützten chemischen Abscheidung von Schichten aus der Dampfphase unter Verbesserung der Zwischenflächen
摘要
申请公布号 DE69422550(T2) 申请公布日期 2000.08.10
申请号 DE19946022550T 申请日期 1994.06.21
申请人 APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 ROBERTSON, ROBERT;KOLLRACK, MARC MICHAEL;LEE, ANGELA T.;TAKEHARA, TAKAKO;FENG, GUOFU JEFF;CONNOLLY, ROBERT;LAW, KAM;MAYDAN, DAN
分类号 H01L21/302;C23C16/02;C23C16/509;H01L21/205;H01L21/3065;H01L21/31;(IPC1-7):C23C16/44;B05D3/04;B05D3/06;C23C16/50 主分类号 H01L21/302
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com