| 发明名称 |
ION GENERATING SOURCE FOR USE IN AN ION IMPLANTER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR100261007(B1) |
申请公布日期 |
2000.08.01 |
| 申请号 |
KR19950041519 |
申请日期 |
1995.11.15 |
| 申请人 |
EATON CORPORATION |
发明人 |
PIERO SFERLAZZO;EDWARD K. MCINTYRE, JR.;WILLIAM E. REYNOLDS;RICHARD M. CLOUTIER;THOMAS N. HORSKY |
| 分类号 |
H01J27/20;H01J27/14;H01J37/08;H01J37/317;H01L21/265;(IPC1-7):H01L21/265 |
主分类号 |
H01J27/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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