| 摘要 |
<P>L'invention concerne un système d'analyse de gaz dans une enceinte (3) sous pression contrôlée comprenant un dispositif (2, 6) pour ioniser les gaz à analyser, et un dispositif (4, 5) d'analyse des gaz ionisés,selon l'invention, le système comprend :- le dispositif (2, 6) pour ioniser les gaz à analyser comprend une source de plasma 2 dédiée, au contact des gaz contenus dans l'enceinte (3), combinée avec un générateur (6), générant un plasma à partir des gaz à analyser; et - le dispositif (4, 5) d'analyse des gaz ionisés comprend un capteur de radiation (4), situé à proximité de la zone de génération du plasma, connecté à un spectromètre optique (5) analysant l'évolution du spectre radiatif, émis par le plasma généré.</P>
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