| 发明名称 |
Method for producing low dielectric coatings from hydrogen silsesquioxane resin |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP0971400(A3) |
申请公布日期 |
2000.07.26 |
| 申请号 |
EP19990305228 |
申请日期 |
1999.07.01 |
| 申请人 |
DOW CORNING CORPORATION |
发明人 |
BREMMER, JEFFREY NICHOLAS;LIU, YOUFAN |
| 分类号 |
B05D3/02;C08L83/05;C09D1/00;C09D183/00;H01L21/312;H01L21/316;(IPC1-7):H01L21/312 |
主分类号 |
B05D3/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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