| 发明名称 |
Semiconductor interconnect structure employing a pecvd inorganic dielectric layer and process for making same |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1011135(A3) |
申请公布日期 |
2000.07.26 |
| 申请号 |
EP19990204265 |
申请日期 |
1999.12.13 |
| 申请人 |
CONEXANT SYSTEMS, INC. |
发明人 |
HSIA, SHAO-WEN;BRONGO, MAUREEN R. |
| 分类号 |
H01L21/027;H01L21/3213;(IPC1-7):H01L21/768 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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