发明名称 Mistura fungida, e, processo para controlar fungos nocivos
摘要 "MISTURA FUNGICIDA, E, PROCESSO PARA CONTROLAR FUNGOS NOCIVOS" A invenção refere-se a uma mistura fungicida contendo uma quantidade sinergisticamente ativa de pelo menos um composto escolhido entre: a) carbamatos de fórmula (I) nos quais T é CH ou N, n é 0,1 ou 2 e R é um halogênio, C~ 1~-C~ 4~-alquila ou um C~ 1~-C~ 4~-halogênio alcano, e os radicais R podem ser diferentes se n é 2; a~ 2~) o oxima éter éster de ácido carboxílico de fórmula (II) ou a~ 3~) a oxima éter amina de ácido carboxílico de fórmula (III); e b) um composto de fórmula (IV), em que os substituintes X^ 1^ a X^ 5^ e R^ 1^ a R^ 4^ possuem o seguinte significado : X^ 1^ a X^ 5^, independentemente um do outro, são hidrogênio, halogênio, C~ 1~-C~ 4~-alquila, C~ 1~-C~ 4~-halogênio alcano, C~ 1~-C~ 4~-alcoxi,, C~ 1~-C~ 4~-halogênio alcoxi, C~ 1~-C~ 4~-alquiltio, C~ 1~-C~ 4~-tioalcoxi, C~ 1~-C~ 4~-sulfonil alquila, nitro, amino, N-C~ 1~-C~ 4~-carboxil amino, N-C~ 1~-C~ 4~-alquil amino; R^ 1^ é C~ 1~-C~ 4~-alquila, C~ 2~-C~ 4~-alquenila, C~ 2~-C~ 4~-alquinila, C~ 1~-C~ 4~-alquil-C~ 3~-C~ 7~-cicloalquila, onde estes radicais podem suportar substituintes selecionados entre : halogênio, ciano e C~ 1~-C~ 4~-alcoxi; R^ 2^ é um radical fenila ou um radical heterociclila de 5 a 6 membros saturado ou insaturado com pelo menos um heteroátomo selecionado entre os grupo N, O, S, onde os radicais cíclicos podem ter entre um e três substituintes selecionados do grupo de halogênio, C~ 1~-C~ 4~-alquila, C~ 1~-C~ 4~-alcoxi, C~ 1~-C~ 4~-halogênio alcano, C~ 1~-C~ 4~-halogênio alcoxi, C~ 1~-C~ 4~-alcoxi-C~ 2~-C~ 4~-alquenila e C~ 1~-C~ 4~-alcoxi-C~ 2~-C~ 4~-alquinila; R~ 3~ e R~ 4~ independentemente um do outro são hidrogênio, halogênio, C~ 1~-C~ 4~-alquila, C~ 1~-C~ 4~-alcoxi, C~ 1~-C~ 4~-alquiltio, N-C~ 1~-C~ 4~-alquil amino, C~ 1~-C~ 4~-halogênio alcano ou C~ 1~-C~ 4~-halogênio alcoxi ou R~ 3~ e R~ 4~ juntos formam um grupo =O.
申请公布号 BR9809473(A) 申请公布日期 2000.07.25
申请号 BR19980009473 申请日期 1998.05.15
申请人 BASF AKTIENGESELLSCHAFT 发明人 KLAUS SCHELBERGER;MARIA SCHERER;REINHOLD SAUR;HUBERT SAUTER;BERND M³LLER;ERICH BIRNER;JOACHIM LEYENDECKER;EBERHARD AMMERMANN;GISELA LORENZ;SIEGFRIED STRATHMANN
分类号 A01G7/00;A01N37/50;A01N37/52;A01N47/24;(IPC1-7):A01N47/24 主分类号 A01G7/00
代理机构 代理人
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