| 摘要 |
<p>L'invention concerne un procédé servant à exécuter des réactions localisées de gravure sur un substrat par confinement d'un gaz réactif au moyen d'un rideau de gaz non réactif. Ce procédé consiste à générer un gaz réactif capable de graver le substrat ; à appliquer ce gaz réactif au substrat ; à laisser s'écouler un gaz non réactif vers le substrat sous forme d'un rideau de gaz non réactif autour du gaz réactif, de manière à confiner pratiquement le gaz réactif à une zone prédéterminée de gravure sur le substrat. Elle concerne également un dispositif servant à mettre en application ce procédé.</p> |
