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<p>Es wird ein Verfahren zum Strukturieren einer Schicht (20) vorgeschlagen, bei dem nach dem Ätzen der Schicht (20) Ätzrückstände (30) von der Oberfläche der Schicht (20) durch einen Flüssigkeitsstrahl (45) entfernt werden. Die Reinigung erfolgt im wesentlichen durch eine Impulsübertragung vom Flüssigkeitsstrahl (45) auf die Ätzrückstände (30), die dadurch von der Schicht (20) entfernt werden. Das Verfahren eignet sich insbesondere zum Strukturieren von Metallschichten (20).</p> |
