SEMICONDUCTOR ELEMENT AND METHOD FOR ITS PRODUCTION
摘要
Erfindungsgemäss wird ein Halbleiterbauelement mit zumindest einer Schicht aus Wolframoxid (WOx), gegebenenfalls einer strukturierten Schicht aus Wolframoxid (WOx), bereitgestellt. Das erfindungsgemässe Halbleiterbauelement ist dadurch gekennzeichnet, dass die relative Dielektrizitätskonstante ( epsilon r) der Wolframoxidschicht (WOx) grösser als 50 ist.
申请公布号
WO0041459(A2)
申请公布日期
2000.07.20
申请号
WO2000DE00047
申请日期
2000.01.05
申请人
INFINEON TECHNOLOGIES AG;SCHREMS, MARTIN;DRESCHER, DIRK;WURZER, HELMUT;TEWS, HELMUT
发明人
SCHREMS, MARTIN;DRESCHER, DIRK;WURZER, HELMUT;TEWS, HELMUT