发明名称 SEMICONDUCTOR ELEMENT AND METHOD FOR ITS PRODUCTION
摘要 Erfindungsgemäss wird ein Halbleiterbauelement mit zumindest einer Schicht aus Wolframoxid (WOx), gegebenenfalls einer strukturierten Schicht aus Wolframoxid (WOx), bereitgestellt. Das erfindungsgemässe Halbleiterbauelement ist dadurch gekennzeichnet, dass die relative Dielektrizitätskonstante ( epsilon r) der Wolframoxidschicht (WOx) grösser als 50 ist.
申请公布号 WO0041459(A2) 申请公布日期 2000.07.20
申请号 WO2000DE00047 申请日期 2000.01.05
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG;SCHREMS, MARTIN;DRESCHER, DIRK;WURZER, HELMUT;TEWS, HELMUT 发明人 SCHREMS, MARTIN;DRESCHER, DIRK;WURZER, HELMUT;TEWS, HELMUT
分类号 H01L29/78;H01L21/28;H01L21/316;H01L21/8242;H01L27/108;H01L29/51;(IPC1-7):H01L/ 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
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