| 发明名称 | 处理衬底的设备和方法 | ||
| 摘要 | 一种衬底处理方法,包括输送衬底通过相互连通的多个处理空间,并在其中处理所述衬底的步骤,其中根据作为所述多个处理空间之一的处理空间(a)的内压来控制所述处理空间(a)的内压和设在处理空间(a)前后的至少一个处理空间(b)的内压。以及一种衬底处理设备,包括多个处理空间、衬底输送装置和压力计,其中,所述衬底处理设备具有用于根据从所述压力计获得的信息,来控制所述处理空间(a)的内压和设在处理空间(a)前后的至少一个处理空间(b)的内压的控制单元。 | ||
| 申请公布号 | CN1260599A | 申请公布日期 | 2000.07.19 |
| 申请号 | CN99127779.1 | 申请日期 | 1999.12.22 |
| 申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 森山公一朗;金井正博;大利博和;芳里直;冈田直人;下田宽嗣;尾裕之 |
| 分类号 | H01L31/18;H01L31/04;H01L21/205;C23C16/44 | 主分类号 | H01L31/18 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王以平 |
| 主权项 | 1.一种衬底处理方法，包括输送衬底通过相互连通的多个处理空间，并在每个处理空间处理所述衬底的步骤，其特征在于，根据作为所述多个处理空间之一的处理空间(a)的内压，对所述处理空间(a)的所述内压和设置在所述处理空间(a)前或后的、作为多个处理空间中的至少一个的处理空间(b)的内压进行控制。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||