| 发明名称 |
Top-coating composition for photoresist and process for forming fine pattern using the same |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB0012727(D0) |
申请公布日期 |
2000.07.19 |
| 申请号 |
GB20000012727 |
申请日期 |
2000.05.26 |
| 申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO., LTD. |
发明人 |
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| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/11;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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