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发明名称 Method for measuring epitaxial film thickness of multilayer epitaxial wafer
摘要
申请公布号 EP0857943(A3) 申请公布日期 2000.07.19
申请号 EP19980102084 申请日期 1998.02.06
申请人 TOSHIBA CERAMICS CO., LTD. 发明人 SHIRAI, HIROSHI;AKAI, KENJI;ABE, TOSHIO;TOJIMA, CHIKARA;IWATA, KATSUYUKI
分类号 G01B11/06;H01L21/66;H01L29/739;H01L29/78;(IPC1-7):G01B11/06 主分类号 G01B11/06
代理机构 代理人
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