| 发明名称 |
PLASMA ENHANCED CHEMICAL DEPOSITION WITH LOW VAPOR PRESSURE COMPOUNDS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1019562(A1) |
申请公布日期 |
2000.07.19 |
| 申请号 |
EP19980953233 |
申请日期 |
1998.09.29 |
| 申请人 |
BATTELLE MEMORIAL INSTITUTE |
发明人 |
AFFINITO, JOHN, D. |
| 分类号 |
C08F20/12;B05D7/24;C23C16/448;C23C16/50;(IPC1-7):C23C16/44 |
主分类号 |
C08F20/12 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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