| 发明名称 |
SLURRY FILTER OF CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SYSTEM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR200188819(Y1) |
申请公布日期 |
2000.07.15 |
| 申请号 |
KR19990030654U |
申请日期 |
1999.12.31 |
| 申请人 |
ANAM SEMICONDUCTOR.,LTD. |
发明人 |
YOON, DEA RYOUNG;SUH, KWANG HA |
| 分类号 |
H01L21/302;(IPC1-7):H01L21/302 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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