| 发明名称 |
Apparatus and method for monitoring and tuning an ion beam in an ion implantation apparatus |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2345574(A) |
申请公布日期 |
2000.07.12 |
| 申请号 |
GB19990000145 |
申请日期 |
1999.01.05 |
| 申请人 |
* APPLIED MATERIALS INC |
发明人 |
ANDREW JAMES TIMOTHY * HOLMES;DAVID * BURGIN;SIMON HERBERT * POVALL;DAVID GEORGE * ARMOUR;DREW * ARNOLD |
| 分类号 |
C23C14/48;H01J37/04;H01J37/147;H01J37/304;H01J37/317;H01L21/265;(IPC1-7):H01J37/147 |
主分类号 |
C23C14/48 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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