| 主权项 |
1.一种滑行高度校正标准片的制造方法,系包含下列步骤:(a)提供一面基板;(b)形成第一光阻层于所述平面基材表面并曝光后,再形成第二光阻层于所述第一光阻层表面,所述第一光阻层在显影液中有着较第二光阻层更快的溶解速率;(c)利用微影技术定义出光阻层之图案,以形成至少一个上窄下宽的窗口;(d)形成一突起物层于所述光阻层图案以及未被所述光阻层图案覆盖的基板表面;(e)利用剥离技术,将所述光阻层图案以及其上的突起物层除去。2.如申请专利范围第1项所述之滑行高度校正标准片的制造方法,其中所述基板系为表面镀有磷化线(NiP)的铝板。3.如申请专利范围第1项所述之滑行高度校正标准片的制造方法,其中所述第一光阻层是聚二甲基麸酸酐亚胺(PMGI;Polydimethylglutarimide)。4.如申请专利范围第1项所述之滑行高度校正标准片的制造方法,其中所述突起物材质是铬合金。5.如申请专利范围第1项所述之滑行高度校正标准片的制造方法,其中所述突起物材质系选自钛(Ti)、氮化钛(TiN)、镍(Ni)、类钻石膜、铝、钨至少一种。6.如申请专利范围第1项所述之滑行高度校正标准片的制造方法,其中所述突起物的厚度系介于50到600埃之间。7.如申请专利范围第1项所述之滑行高度校正标准片的制造方法,其中所述剥离技术,系将所述标准片浸在N--甲基 咯(NMP;N-Methyl-2-pyrrolidone)或丙酮溶液作超音波振荡。8.一种滑行高度校正标准片的结构,系包含:一基板;以及至少一个边缘垂直表面平坦的突起物(bump)于所述基板表面。9.如申请专利范围第8项所述之滑行高度校正标准片的结构,其中所述基板系为表面镀有磷化镍的铝板。10.如申请专利范围第8项所述之滑行高度校正标准片的结构,其中所述突起物是铬合金。11.如申请专利范围第8项所述之滑行高度校正标准片的结构,其中所述突起物系送自钛、氮化钛、镍、类钻石膜、铝、钨之一。12.如申请专利范围第8项所述之滑行高度校正标准片的结构,其中所述突起物的厚度系介于50到600埃之间。第一图为习知技艺利用校正标准片来校正滑行高度的示意图。第二图为本发明实施例于涂布第二光阻后的剖面图。第三图为本发明实施例于形成上窄下宽窗口后的剖面图。第四图为本发明实施例于形成突起物于窗口内的剖面图。第五图为本发明实施例滑行高度校正标准片的完成剖面图。 |
