| 主权项 |
1.一种化学机械研磨机台,该机台包括: 一旋转座,设于该机台之内; 复数个研磨台,设于该旋转座上,并以一方向旋转; 复数个研磨垫,设于该些研磨台上; 复数个分送管,置于该些研磨垫上方,该些分送管 未 与该些研磨垫相接触,用以输送研浆至该些研磨垫 上; 一排通管,连接该旋转座至该机台之外,以排流研 浆; 一节流阀,设于该机台之外的该排通管上,以调节 该 排通管之流通;以及 一控制器,连接该节流阀,以控制该节流阀。2.如申 请专利范围第1项所述之化学机械研磨机台, 其中更包括一握柄,用以抓住一晶片的背面,将该 晶片的 正面压在该研磨垫上。3.如申请专利范围第1项所 述之化学机械研磨机台, 其中更包括一液泵,连接于该些分送管上,用以将 研浆抽 送到该分送管中。4.如申请专利范围第1项所述之 化学机械研磨机台, 其中更包括一排通帮浦,连接于该机台之外的该排 通管之 末端,用以将该旋转座上已使用过之研浆,抽送到 该排通 管中。5.一种化学机械研磨机台,该机台包括: 一旋转座,设于该机台之内; 复数个研磨台,设于该旋转座上,并以一方向旋转; 复数个研磨垫,设于该些研磨台上; 复数个分送管,置于该些研磨垫上方,该些分送管 未 与该些研磨垫相接触,用以输送研浆至该些研磨垫 上; 一排通管,连接该旋转座至该机台之外,以排流研 浆; 一节流阀,设于该机台之外的该排通管上,以调节 该 排通管之流通; 一排通帮浦,连接于该机台之外的该排通管之末端 , 用以将该旋转座上已使用过之研浆,抽送到该排通 管中; 以及 一控制器,连接该节流阀,以控制该节流阀。6.如申 请专利范围第5项所述之化学机械研磨机台, 其中更包括一握柄,用以抓住一晶片的背面,将该 晶片的 正面压在该研磨垫上。7.如申请专利范围第5项所 述之化学机械研磨机台, 其中更包括一液泵,连接于该些分送管上,用以将 研浆抽 送到该分送管中。 第一图系绘示习知之一种化学机械研磨机台整体 结构 之俯视图; 第二图A系绘示本发明之一较佳实施例,一种化学 机 械研磨机台的一研磨台整体结构之俯视示意图; 第二图B系绘示本发明之一较佳实施例,一种化学 机 械研磨机台的一研磨台整体结构之侧视图;以及 第三图系绘示本发明之一较佳实施例,一种化学机 械 研磨机台整体结构之俯视示意图。 |
