发明名称 Method for the production of a microstructured SiO2/TiO2 layer system
摘要 <p>Beschrieben wird ein Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Schichtsystems, umfassend ein Substrat und eine oder mehrere Schichten aus TiO2/SiO2. Ein nach diesem Verfahren hergestelltes mikrostrukturiertes Schichtsystem kann als diffraktives Gitter, Antireflexschicht oder Biosensor verwendet werden.</p>
申请公布号 EP1016637(A2) 申请公布日期 2000.07.05
申请号 EP19990122037 申请日期 1999.11.15
申请人 FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FOERDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. 发明人 LOEBMANN, PEER, DR. DIPL.-CHEM.
分类号 C03B19/12;C03C17/00;C03C17/02;C03C17/25;C03C17/34;(IPC1-7):C03C17/25;C04B41/89;C04B41/85;C23C18/12 主分类号 C03B19/12
代理机构 代理人
主权项
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