发明名称 Process for controlled deposition profile forced flow chemical vapor infiltration
摘要 A method and apparatus for forced flow/thermal gradient chemical vapor infiltration (CVI) of fibrous porous structure to create a simultaneous deposition of a carbon matrix throughout the substrate.
申请公布号 US6083560(A) 申请公布日期 2000.07.04
申请号 US19960752450 申请日期 1996.11.15
申请人 FISHER, DEAN F.;LAWRENCE, TIMOTHY W. 发明人 FISHER, DEAN F.;LAWRENCE, TIMOTHY W.
分类号 C04B35/83;C23C16/04;C23C16/26;C23C16/46;(IPC1-7):C23C16/00 主分类号 C04B35/83
代理机构 代理人
主权项
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