发明名称 | 半导体器件及其制造方法 | ||
摘要 | 在除图象元素部分之外的无定形硅薄膜上,在预定的外围电路部分的区域内引入镍,以从该区域结晶。在栅电极和其他电极形成之后,用掺杂法形成源、漏和沟道,用激光照射改善结晶。之后,形成电极/引线。因此,获得有源矩阵型液晶显示器,它的外围电路部分中的薄膜晶体管(TFT),由结晶薄膜结构,其晶体在平行于载流子流的方向里生长,在图象元素部分里的TFT<SUB>S</SUB>由无定形硅薄膜构成。 | ||
申请公布号 | CN1258102A | 申请公布日期 | 2000.06.28 |
申请号 | CN99120260.0 | 申请日期 | 1994.05.26 |
申请人 | 株式会社半导体能源研究所 | 发明人 | 张宏勇;高山彻;竹村保彦;宫永昭治 |
分类号 | H01L29/04;H01L29/786 | 主分类号 | H01L29/04 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 李亚非 |
主权项 | 1.一种包括基片和在基片上形成的多个薄膜晶体管的半导体器件,包括:至少一个具有包括硅的结晶半导体膜的薄膜晶体管,其中结晶半导体膜有一个和载流子运动的方向一致的晶体生长方向。 | ||
地址 | 日本神奈川县 |