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发明名称 A NEGATIVELY ACTING PHOTORESIST COMPOSITION BASED ON POLYIMIDE PRECURSORS
摘要
申请公布号 EP1012672(A1) 申请公布日期 2000.06.28
申请号 EP19980946899 申请日期 1998.09.10
申请人 ARCH SPECIALTY CHEMICALS, INC. 发明人 HAGEN, SIGURD;REICHLIN, NADIA
分类号 G03F7/038;(IPC1-7):G03F7/038 主分类号 G03F7/038
代理机构 代理人
主权项
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