| 发明名称 |
Substrato dielétrico, e, processo de fabricação de um substrato dielétrico. |
| 摘要 |
<p>"SUBSTRATO DIELéTRICO, E, PROCESSO DE FABRICAçãO DE UM SUBSTRATO DIELéTRICO" A invenção diz respeito a camadas texturizadas de liberação superficial para substratos usados em processos eletrostáticos líquidos de formação de imagem. A invenção também inclui meios de prover superfícies de liberação texturizadas para substratos dielétricos, e um processo de formação de imagem eletrostática líquida usando substratos dielétricos texturizados.</p> |
| 申请公布号 |
BR9714676(A) |
申请公布日期 |
2000.06.27 |
| 申请号 |
BR19979714676 |
申请日期 |
1997.12.23 |
| 申请人 |
MINNESOTA MINING AND MANUFACTURING COMPANY |
发明人 |
TERRI L. BUTLER;KATHRYN R. BRETSCHER;MARK C. BERENS;JAMES A. BAKER;GAYE K. LEHMAN |
| 分类号 |
G03G5/00;G03G5/02;G03G5/14;G03G5/147;(IPC1-7):G03G5/14;G03G13/22 |
主分类号 |
G03G5/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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