主权项 |
1.一种可自动充气之气垫,系由两个以上之气室所组成,其中包含:一支撑气室,未充气之前即已具三维空间之形态且呈中空状态可填充流体之本体,该本体并藉管道与一充气室相连通,而本体上可有一预设之凹穴供该充气室置放;一充气室,呈中空状且可凹陷改变体积之本体,而在本体周缘则接设有与支撑气室相通之管道;至少一单向阀,其系装设在该管道中,使由充气室压流至支撑气室之气体不致回流至充气室中。2.如申请专利范围第1项所述之可自动充气之气垫,其中之充气室装设在支撑气室所预留之空间中。3.如申请专利范围第1项所述之可自动充气之气垫,其中之充气室亦可与支撑气室分离,而为一独立之中空本体。4.如申请专利范围第1项所述之可自动充气之气垫,其中之充气室本体上可设有一气孔。5.如申请专利范围第1项所述之可自动充气之气垫,其中之管道上设有泄压阀,以使支撑气室可藉泄压阀调整其压力,而因应各种不同活动之需要。6.如申请专利范围第1项所述之可自动充气之气垫,进一步包含一置于充气室与支撑气室间之调压气室。7.如申请专利范围第1项所述之可自动充气之气垫,该调压气室内包含一调压杆。8.如申请专利范围第1项所述之可自动充气之气垫,该调压气室至少连接一个以上之分气室。9.一种可自动充气之气垫,系由两个以上之气室所组成,其中包含:一支撑气室,未充气之前即已具三维空间之形态且呈中空状态可填充流体之本体,该本体并藉管道与一充气室相连通;一充气室,呈中空状且可凹陷改变体积之本体,而在本体周缘则接设有与支撑气室相通之管道;至少一单向阀,其系装设在该管道中,使由充气室压流至支撑气室之气体不致回流至充气室中;至少一置于充气室与支撑气室间之加压气室。10.申请专利范围第9项所述之可自动充气之气垫,进一步包含一置于充气室与加压气室间之调压气室。11.如申请专利范围第9项所述之可自动充气之气垫,该调压气室内包含一调压杆。12.如申请专利范围第9项所述之可自动充气之气垫,该调压气室至少连接一个以上之分气室。13.如申请专利范围第9项所述之可自动充气之气垫,其中之充气室本体上可设有一气孔。14.如申请专利范围第9项所述之可自动充气之气垫,其中之充气室装设在支撑气室所预留之空间中。15.如申请专利范围第9项所述之可自动充气之气垫,其中之充气室亦可与支撑气室分离,而为一独立之中空本体。16.如申请专利范围第1项或第9项所述之可自动充气之气垫,至少一个以上之进气单向阀与该充气室相接用以承接外界进入该充气室之气体。17.如申请专利范围第9项所述之可自动充气之气垫,其本体上可有一预设之凹穴供该充气室置放。图式简单说明:第一图为本发明构造之示意图。第二图为本发明之另一实施例之示意图。第三图为本发明实施时之示意图。第四图为本发明另一构造之示意图。第四图A为本发明之另一构造10A-10A之剖视示意图。第四图B为本发明另一构造之10A-10A剖视动作示意图一。第四图C为本发明另一构造之10A-10A剖视动作示意图二。第四图D为本发明另一构造之10D-10D剖视示意图。第五图为本发明又一构造上调压室之示意图。第五图A为本发明又一构造之11A-11A之剖视示意图。 |