| 发明名称 |
Verfahren zur Herstellung von im wesentlichen Randzonen-freien Formteilen aus multikristallinem Silicium und die Verwendung dieser Formteile |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE19711550(C2) |
申请公布日期 |
2000.06.21 |
| 申请号 |
DE1997111550 |
申请日期 |
1997.03.20 |
| 申请人 |
BAYER AG |
发明人 |
HAESLER, CHRISTIAN;LIEBERMANN, JOHANNES |
| 分类号 |
C01B33/02;C30B33/00;H01L21/02;H01L31/04;H01L31/18;(IPC1-7):C30B33/02;C30B29/06 |
主分类号 |
C01B33/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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