| 发明名称 | 基片干燥装置 | ||
| 摘要 | 对于所提出的通过紫外线照射干燥基片盘(3)的设备,其中在照射过程期间,一个玻璃板(11)放置在基片盘(3)上利用简单的技术手段和采用简单的设备操作,通过一个升降的上部(6)得到或自行得到低废品率和成品基片盘的高品质,上部要落到放置在下部(23)上的基片盘(3)上。 | ||
| 申请公布号 | CN1257601A | 申请公布日期 | 2000.06.21 |
| 申请号 | CN98805367.5 | 申请日期 | 1998.05.14 |
| 申请人 | 施蒂格哈马技术股份公司 | 发明人 | K·维伯尔;U·施贝尔 |
| 分类号 | G11B7/26;F26B15/04;F26B3/28 | 主分类号 | G11B7/26 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 崔幼平;章社杲 |
| 主权项 | 1.通过用紫外光线的照射使基片圆盘(3)干燥的装置，其中在照射过程中有一个玻璃板(11)放置在基片圆盘(3)上，其特征在于，它具有一个可抬起和可降下的上部(6)，使玻璃板(11)降下到位于一个下部(23)上的基片圆盘(3)上。 | ||
| 地址 | 联邦德国斯台恩费尔斯 | ||