| 发明名称 | 芳族卤化物的还原 | ||
| 摘要 | 为将通式(Ⅰ)Ar－X<SUB>n</SUB>的(杂)芳族卤化物还原成通式(Ⅱ)Ar－H<SUB>n</SUB>的化合物,在有氧存在下(特别以氧气和一种惰性气体的混合物形式)采用一种还原剂,特别是如氢化锂铝(LiAlH<SUB>4</SUB>)的氢化物试剂。有氧存在下还原得到较好的产率并且反应时间短,甚至在半工业化和工业化规模上也是如此。有氧存在下用LiAlH<SUB>4</SUB>还原适合于还原复杂的杂芳族卤化物,例如将溴代narwedine缩酮以工业规模还原成narwedine缩酮。 | ||
| 申请公布号 | CN1257467A | 申请公布日期 | 2000.06.21 |
| 申请号 | CN98805275.X | 申请日期 | 1998.04.30 |
| 申请人 | 萨诺化学药物股份公司 | 发明人 | L·克佐尔纳;J·弗罗里奇;U·乔蒂斯;B·库恩伯格 |
| 分类号 | C07B31/00;C07D491/10;C07D307/00;C07D223/00;//C07C1/26,C07D333/10,(C07D491/10,307:00,223:00) | 主分类号 | C07B31/00 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 吴亦华 |
| 主权项 | 1.用还原剂将通式(I)芳族卤化物还原成通式(II)化合物方法， Ar-Xn (I)其中Ar为芳族基团，它可以在一个或多个位置被取代，它可以被稠合和可含一个或多个杂原子(O，S，N)；X为F，Cl，Br和/或I；n＝1-10， Ar-Hn (II)其中Ar和n具有通式(I)中所指定的意义，其特征是在有氧存在下进行还原。 | ||
| 地址 | 奥地利维也纳 | ||