| 发明名称 |
Verfahren zum Ätzen von Siliziumoxid mit hoher Selektivität |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE69513772(T2) |
申请公布日期 |
2000.06.21 |
| 申请号 |
DE19956013772T |
申请日期 |
1995.09.26 |
| 申请人 |
FSI INTERNATIONAL, CHASKA |
发明人 |
MEHTA, JITESH |
| 分类号 |
C03C15/00;C30B29/06;C30B29/16;C30B33/12;H01L21/302;H01L21/306;H01L21/3065;H01L21/311;(IPC1-7):H01L21/311 |
主分类号 |
C03C15/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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