| 发明名称 |
Photosensitive resin composition and photosensitive using the resin composition |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG73569(A1) |
申请公布日期 |
2000.06.20 |
| 申请号 |
SG19980004206 |
申请日期 |
1998.10.14 |
| 申请人 |
NICHIGO MORTON CO., LTD. |
发明人 |
KOSAKA EIJI;MURAKAMI SHIGERU |
| 分类号 |
C08F2/50;C08F220/10;C08F290/06;C08L33/02;G03F7/027;G03F7/028;H05K3/06;(IPC1-7):G03F7/028;G03F7/032 |
主分类号 |
C08F2/50 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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