| 发明名称 |
METODO DE FABRICACION DE CIRCUITOS INTEGRADOS. |
| 摘要 |
Método de fabricación de circuitos integrados con el cual la planarización del dieléctrico se logra por desenfoque y subexposición del fotoresist. El fotoresist se puede atacar a la misma velocidad que el dieléctrico, produciendo de este modo un dieléctrico liso o planarizado.
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| 申请公布号 |
ES2144939(A1) |
申请公布日期 |
2000.06.16 |
| 申请号 |
ES19970002604 |
申请日期 |
1997.12.16 |
| 申请人 |
LUCENT TECHNOLOGIES INC., |
发明人 |
COLINA ALBERTO;HERRERO BENITO |
| 分类号 |
H01L21/3105;(IPC1-7):H01L21/70 |
主分类号 |
H01L21/3105 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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