| 摘要 |
<p>Es wird eine Vorrichtung zur Erzeugung eines freien kalten Plasmastrahles (21) mit einer hochfrequenten Plasmaquelle (15) und einem für elektromagnetische Strahlung transparenten Hohlkörper (11), der mit mindestens einer Gaseintrittsöffnung (10) und mindestens einer Strahlaustrittsöffnung (13) versehen ist, vorgeschlagen. Die hochfrequente Plasmaquelle (15) ist insbesondere eine Mikrowellenplasmaquelle oder eine Hochfrequenzplamaquelle und erzeugt zunächst zumindest innerhalb des Hohlkörpers (11) ein kaltes Gasplasma (12), das als freier, kalter Plasmastrahl (21) über die Strahlaustrittsöffnung (13) aus dem Hohlkörper (11) geführt wird und in eine Arbeitskammer (19) eintritt. In der Arbeitskammer (19) herrscht ein Vakuum. Der freie Plasmastrahl (21) bleibt auch in der Arbeitskammer (19) gebündelt und kann dort zur Reinigung, zum Ätzen oder zum Plamabeschichten mit einem Reaktivgas eingesetzt werden.</p> |
