发明名称 MICROELECTRONIC STRUCTURE
摘要 <p>Es wird eine mikroelektronische Struktur vorgeschlagen, bei der eine erste leitfähige Schicht (20, 25) eine Sauerstoffdiffusion behindert. Dazu besteht die erste leitfähige Schicht (20, 25) aus einem Grundmaterial und mindestens einem sauerstoffbindenden Zusatz. Dieser weist zumindest ein Element aus der vierten Nebengruppe oder aus der Lanthangruppe auf. Bevorzugt wird die mikroelektronische Struktur bei Halbleiterspeicherbausteinen mit Metalloxiddielektrikum als Kondensatordielektrikum verwendet.</p>
申请公布号 WO2000034988(A1) 申请公布日期 2000.06.15
申请号 DE1999003832 申请日期 1999.12.01
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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