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发明名称
Verfahren und Vorrichtung zum Auftragen einer supraleitenden Schicht auf die Oberfläche eines Substrats durch ausserachsiale Laserablation
摘要
申请公布号
DE69516784(D1)
申请公布日期
2000.06.15
申请号
DE1995616784
申请日期
1995.09.15
申请人
SUMITOMO ELECTRIC INDUSTRIES, LTD.
发明人
NAGAISHI, TATSUOKI;ITOZAKI, HIDEO
分类号
C23C14/28;H01L39/24;(IPC1-7):H01L39/24
主分类号
C23C14/28
代理机构
代理人
主权项
地址
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