发明名称 |
Mehrschicht-Resistverfahren zum Herstellen eines MLR-Musters |
摘要 |
|
申请公布号 |
DE4338778(C2) |
申请公布日期 |
2000.06.15 |
申请号 |
DE19934338778 |
申请日期 |
1993.11.12 |
申请人 |
GOLDSTAR ELECTRON CO., LTD. |
发明人 |
LEE, JUN SEOK |
分类号 |
G03F7/26;G03F7/00;G03F7/09;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/095;G03F7/11;H01L21/312 |
主分类号 |
G03F7/26 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|