| 发明名称 |
Process for forming photoresist pattern by top surface imaging process |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB0010359(D0) |
申请公布日期 |
2000.06.14 |
| 申请号 |
GB20000010359 |
申请日期 |
2000.05.02 |
| 申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO., LTD. |
发明人 |
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| 分类号 |
G03F7/039;C08F2/48;C08F12/24;C08F16/14;C08F16/38;C08F24/00;C08F220/18;C08F222/06;C08K5/00;C08K5/06;C08K5/156;C08L25/18;C08L101/00;G03F7/004;G03F7/027;G03F7/038;G03F7/26;G03F7/38;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/039 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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