| 主权项 |
1.一种蒸发装置,系用以产生一液体喂入材料的蒸气之蒸发装置,其包括:一蒸发通道,其包括分开一微小间距之一对相向壁面;一液体喂入材料之入口,其系设在该蒸发通道之一端;一已蒸发喂入材料之出口,其系设在该蒸发通之一相反端点;和加热机构,用以加热该等壁面至一温度,而此温度超过该液体喂入材料之一蒸发温度。2.如申请专利范围第1项之蒸发装置,其中至少在该等壁面之一壁面上设有气体流动沟槽,以便能够使一已蒸发之气体及/或一载运气体流经该处。3.如申请专利范围第1项之蒸发装置,其中该蒸发通道包括一渐增部份,而其中各蒸发通道之横截面面积系在靠近该已蒸发喂入材料之出口处增大。4.如申请专利范围第1项之蒸发装置,其中该装置设有一个间距调整机构,用以改变该微小间距之分开距离。5.如申请专利范围第4项之蒸发装置,其中该装置设有一个驱动机构,用以操作该间距调整机构。6.如申请专利范围第1项之蒸发装置,其中该液体喂入材料之入口系与一个载运气体供给通道互通,用以供给一载运气体。7.如申请专利范围第1项之蒸发装置,其中该蒸发通道包括一对彼此相向之旋转表面。8.如申请专利范围第7项之蒸发装置,其中该旋转表面包括一个锥形表面。9.如申请专利范围第7项之蒸发装置,其中该旋转表面包括一个圆柱形表面。10.如申请专利范围第7项之蒸发装置,其中该旋转表面包括一个锥形表面与圆柱形表面之结合表面。11.如申请专利范围第1项之蒸发装置,其中该蒸发通道包括一对相向之平坦表面。12.如申请专利范围第1项之蒸发装置,其中该微小间距是不超过0.3毫米。13.如申请专利范围第1项之蒸发装置,其中该液体喂入材料之入口包括一个喂入材料导引部份,用以引导该液体喂入材料进入该等蒸发通道。14.如申请专利范围第1项之蒸发装置,其进一步包括一个液体喂入材料之供给通道,用以供给一液体喂入材料至该蒸发通道,其下方端点供在该液体喂入材料之入口上方打开,并隔开一已知之距离。15.如申请专利范围第1项之蒸发装置,其中该等壁面系设有表面特性,以促进承受该液体喂入材料之吸湿度。16.如申请专利范围第1项之蒸发装置,其中该液体喂入材料之入口系设在该蒸发通道之上方,且该已蒸发喂入材料之出口系设在该蒸发通道之下方。17.如申请专利范围第1项之蒸发装置,其中该液体喂入材料之入口与该已蒸发气体之出口大体而言系同轴地定位。18.一种用以蒸发一液体喂入材料之方法,包括各步骤为:藉着利用表面张力(毛细管现象)不断地供给一液体喂入材料至一个蒸发通道中所形成之微小间距内,该表面张力系作用于该液体喂入材料与该蒸发通道之接触表面之间,该蒸发通道包括一对加热壁面之机构。19.如申请专利范围第18项之方法,其中该液体喂入材料系藉着重力供给进入该微小间距内。20.一种蒸发装置,系用以蒸发一液体喂入材料之蒸发装置,包括:一个蒸发通道,其设有一个液体喂入材料之入口;加热机构,用以加热该蒸发通道至一温度,而此温度超过该液体喂入材料之一蒸发温度;一个喂入材料供给通道,用以经由该液体喂入材料之入口供给该液体喂入材料至该蒸发通道;与一个绝缘部份,用以维持该喂入材料供给通道处于一低温状态中,且足以保持该液体喂入材料处于一稳定状态下,而不会蒸发。21.如申请专利范围第20项之蒸发装置,其中一压缩部份系设在该绝缘部份与该加热机构之间。22.如申请专利范围第20项之蒸发装置,其中放置该喂入材料供给通道,以致其与该液体喂入材料之入口分开一特定距离,且该加热机构与该绝缘部份系沿着环绕该液体喂入材料入口之周边结合在一起。23.一种蒸发装置,系用以蒸发一液体喂入材料之蒸发装置,以便产生一制程蒸气而引导进入一材料处理室,该蒸发装置包括:一个喂入材料储存装置,用以储存该液体喂入材料;喂入材料供给机构,用以供给该液体喂入材料;与一个喂入材料流动通道,其中一个蒸发机构系放置在该喂入材料流动通道中,该喂入材料流动通道将连通该喂入材料供给机构与该材料处理室,且一个预防蒸发之机构系放置在该蒸发机构上游,相对该喂入材料之流动方向,以防止该蒸发机构影响该液体喂入材料。24.如申请专利范围第23项之蒸发装置,其中该预防蒸发之机构包括一个设在该喂入材料流动通道中之绝热联接装置,其系位于该蒸发机构之邻接上游处。25.一种用以引导制程蒸气至一蒸发物结集层之制程气体喷射器装置,该蒸发物结集层系放置于一个镀膜室中,该制程气体喷射器装置包括:一蒸发器部分,其设有一个蒸发通道,该蒸发通道包括分开一微小间距之一对相向壁面;一液体喂入材料之入口,其系设在该蒸发通道之一端;一已蒸发喂入材料之出口,其系设在该蒸发通道之一相反端点;加热机构,用以加热该等壁面至一温度,而此温度超过该液体喂入材料之一蒸发温度;和一喷射头,用以引导一已蒸发之喂入材料至该蒸发物结集层;其中该蒸发器部份与该喷射头系一体地组合形成一个热单元。26.一种蒸发装置用以蒸发一液体喂入材料之蒸发装置,包括:一个喂入材料供给部份,用以在一预定速率下供给该液体喂入材料,而维持该液体喂入材料之温度不超过一蒸发温度;一个蒸发器部份,用以蒸发该液体喂入材料,这是经由加热该液体喂入材料至一温度,此温度超过其蒸发温度,其中在该喂入材料供给部份与该蒸发器部份之间提供一个桥接路径部份,其设有一微小之间距,用以不断地运送该液体喂入材料。27.如申请专利范围第26项之蒸发装置,其中一个载运气体入口系通至该桥接路径部份,以便能够使一载运气体接触该液体喂入材料。28.如申请专利范围第26项之蒸发装置,其中提供一个间距调整机构,用以变化该微小间距之分开距离。29.如申请专利范围第28项之蒸发装置,其中提供一驱动机构,以便操作该间距调整机构。30.如申请专利范围第26项之蒸发装置,其中该蒸发器部份包括一个针头部份,且该喂入材料供给部份包括一个小直径之管子,用以供给该液体喂入材料,该针头部份系在该桥接路径部份中放置毗连该小直径管子之一顶端。31.如申请专利范围第26项之蒸发装置,其中该小直径管子之顶端系设计成一圆柱形之喷嘴形式。32.如申请专利范围第30项之蒸发装置,其中该小直径管子之内径不超过2毫米。33.如申请专利范围第26项之蒸发装置,其中该桥接路径部份包括一个液体导引部份,其靠近下游位置处设有一逐渐减少之横截面面积。34.一种制程气体喷射器装置包括:一蒸发装置,其设有一个喂入材料供给部份,用以在一预定速率下供给该液体喂入材料,而维持该液体喂入材料之温度不超过一蒸发温度;一个蒸发器部份,用以蒸发该液体喂入材料,这是经由加热该液体喂入材料至一温度,此温度超过其蒸发温度;一个桥接路径部份,其设有一微小之间距,用以不断地运送该液体喂入材料;与一个喷射头装置,用以引导一已蒸发之制程气体进入一个材料处理室;其中该蒸发装置与该喷射头系一体地组合形成一个热单元。图式简单说明:第一图是本发明一整个蒸发装置之一横截面视图。第二图是第一图所示装置中心部份之一放大横截面视图。第三图A与第三图B分别是一个针头部份之正面图与平面图,该针头部份是第二图中所示之临界部份。第四图是该蒸发器部份之一局部放大横截面视图,用以加热该液体及输出一制程气体穿过这些沟槽。第五图A与第五图B系不同形式之桥接路径部份之放大侧视图,其包括第一图中所示之喷嘴与针头部份。第六图A与第六图B是该桥接路径部份之其它架构。第七图是该蒸发装置另一实施例之一横截面视图,其设有一个间距调整机构。第八图A是该蒸发装置之又另一实施例,其设有用于该间距调整机构之一驱动器。第八图B是该驱动之一局部放大平面图。第九图是本发明蒸发装置之又另一实施例。第十图是一整合型式蒸发装置之一横截面视图,其设有一个与喷射头整合之蒸发装置。第十一图A与第十一图B是该蒸发装置针头部份与桥接路径部份之其它范例。第十二图A与第十二图B是该等桥接路径部份之其它范例。第十三图是一个图表,其显示一些液体喂入材料之物理性质。 |
