清洗溶液

摘要

一种石版印刷用之清洗溶液，其包含100重量份水溶性有机溶剂与0.5~200重量份水之均质溶液。水溶性有机溶剂可为已作为光阻或抗反射涂层用之溶剂或清洗溶液之任何与水互溶有机溶剂。水溶性有机溶剂之较佳实例为丙二醇单乙醚与丙二醇单甲醚乙酸酯之混合物、丙二醇单甲醚与丙二醇单甲醚乙酸酯之混合物、及乳酸乙酯。此清洗溶液可用以自如积体电路元件、滤色板、液晶显示元件等之基质，或自光阻涂刷装置，溶解或汽提固化或非固化不必要之光阻、抗反射涂层等。

主权项

1.一种石版印刷用之清洗溶液,其包含100重量份水溶性有机溶剂与0.5-200重量份水之均质溶液,其中该水溶性有机溶剂为至少一种选自丙二醇烷醚、丙二醇烷醚乙酸酯、乳酸乙酯、甲乙酮、甲基异丁基酮与丙酮。2.如申请专利范围第1项之石版印刷用之清洗溶液,其中该水溶性有机溶剂为丙二醇烷醚与丙二醇烷醚乙酸酯之混合物。3.如申请专利范围第2项之石版印刷用之清洗溶液,其中该丙二醇烷醚为丙二醇单甲醚及该丙二醇烷醚乙酸酯为丙二醇单甲醚乙酸酯。4.如申请专利范围第2项之石版印刷用之清洗溶液,其中该丙二醇烷醚为丙二醇单乙醚及该丙二醇烷醚乙酸酯为丙二醇单甲醚乙酸酯。5.如申请专利范围第1项之石版印刷用之清洗溶液,其中该水溶性有机溶剂为乳酸乙酯。6.如申请专利范围第1项之石版印刷用之清洗溶液,其用以溶解或汽提光阻层或抗反射涂层。