相位移光罩之相位角修正方法,申请号TW088116149-传众专利搜索

发明名称	相位移光罩之相位角修正方法
摘要	一种相位移光罩之相位角修正方法，用以修正一相位移光罩之相位角误差，其中该相位移光罩具有一可允许之透光率误差，该方法包括以下步骤：提供一溶液；设定该溶液之温度及浓度，并将该相位移光罩浸泡于该溶液中一段时间，使该溶液对该相位移光罩产生一相位角时间变化率及一透光率时间变化率，而能够将相位角误差修正并使透光率之改变落于可允许之透光率误差内。因此，本发明使相位移光罩在制作后仍有机会进行相位角之修正，以节省生产成本。
申请公布号	TW393590	申请公布日期	2000.06.11
申请号	TW088116149	申请日期	1999.09.18
申请人	台湾积体电路制造股份有限公司	发明人	周伟仁;屈庆勋;资三德
分类号	G03F1/00	主分类号	G03F1/00
代理机构		代理人	洪澄文台北巿信义路四段二七九号三楼
主权项	1.一种相位移光罩之相位角修正方法,用以修正一相位移光罩之相位角误差P,其中该相位移光罩具有一可允许之透光率误差T(T>0),该方法包括以下步骤:提供一溶液;设定该溶液之温度及浓度,并将该相位移光罩浸泡于该溶液中一段时间t (t>0),使该溶液对该相位移光罩产生一相位角时间变化率P及一透光率时间变化率T,满足以下之关系式:Pt=P\|Tt\|<T2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该溶液系NaOH溶液。3.如申请专利范围第2项所述之方法,其中该溶液之温度系控制在60℃,而浓度则控制在5.6mole/liter。4.如申请专利范围第2项所述之方法,其中该溶液之温度系控制在25℃,而浓度则控制在11.2mole/liter。5.一种相位移光罩之相位角修正方法,包括以下步骤:提供一相位移光罩;将该相位移光罩浸泡于一氢氧化钠溶液中,在增加该相位移光罩之相位角时,该氢氧化钠溶液之温度及浓度分别为60℃及5.6mole/liter,而在减少该相位移光罩之相位角时,则该氢氧化钠溶液之温度及浓度分别为25℃及11.2mole/liter。
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