发明名称 使用增进式水平解析度之喷墨式印表机列印方法
摘要 一种利用喷墨式印表机在列印介质上列印影像之方法,列印头具有多数喷墨孔供墨喷至该列印介质上,其中该喷墨孔与于行进方向中间隔一共同距离,列印头可于对行进方向成横向之方向中以增量步骤移动,其中该增量步骤具有一最小步距,一影像区域具有多数像素位置之行及列,该列像素位置具有一根据共同距离之行进像素解析度,该行像素位置具有一根据该最小步距之横向像素解析度,一低限矩阵系由多数行与列之格室所界定,其中各格室对应影像区域中像素位置之一,低限值系指定予低限矩阵内之各格室,过渡格室系藉由具有与低限矩阵相同数量之行及比低限矩阵多的列加以界定,各列过渡矩阵具有对应低限矩阵其一列之低限值的格室,且其配置至少相邻一具有相同指定低限值格室之其他列,该墨系根据墨之色值与过渡矩阵之低限值喷到列印介质上。
申请公布号 TW393407 申请公布日期 2000.06.11
申请号 TW087112819 申请日期 1998.08.04
申请人 利盟国际股份有限公司 发明人 汤马士琼艾迪
分类号 B41J2/135 主分类号 B41J2/135
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种利用喷墨式印表机在列印介质上以至少一色墨列印影像之方法,该列印介质可于该喷墨式印表机行进方向中移动,该方法包括以下步骤:提供一列印头,其具有多数喷墨孔,供墨喷至该列印介质上,其中该喷墨孔于该行进方向中间隔一共同距离,该列印头可于与行进方向成横向之方向中以增量步骤移动,该增量步骤具有一最小步距;界定一影像区域,其具有多数行之像素位置及多数列之像素位置,该列像素位置对应列印介质上之墨点安置位置,该行像素位置具有一根据该共同距离之行进像素解析度,该行像素位置具有一根据该最小步距之横向像素解析度:分配一色値予该至少一色墨;界定一低限矩阵,其系具有数行之格室及多数列之格室,各该格室对应该影像区域中该像素位置之一;分配一低限値予该低限矩阵内之各别该格室;界定一过渡格室,其系具有与该低限矩阵相同之行数及比该低限矩阵多之列数,该较多之列数为该低限矩阵之该列数与一整数乘数之乘积,该整数乘数系根据该最小过渡步距;分配一低限値予该过渡矩阵内之各个别格室,各该列之该过渡矩阵具有带低限値之格室,其对应了该列之低限矩阵之一,各该列之低限矩阵配置于相邻至少一其他该列,其中该格室分配有相同低限値;及根据至少一色墨之该色値及该过渡矩阵之低限値,以至少一色墨在列印介质上列印。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中该行进像素解析度及该横向像素解析度对应了约300点每寸之解析度,及该最小步距对应了一约600点每寸之解析度。3.根据申请专利范围第2项之方法,其中该整数乘数等于2。4.根据申请专利范围第3项之方法,其中该低限矩阵为一44矩阵,且该过渡矩阵为一48之矩阵。5.根据申请专利范围第1项之方法,其中该至少一色墨包括至少三色墨。6.根据申请专利范围第5项之方法,其中该至少三色墨包括黄墨、红墨及蓝墨。7.根据申请专利范围第1项之方法,若该至少一色墨之色値大于该过渡矩阵之对应格室的该低限値时,其中该列印步骤包括由该喷墨孔其中选定一者,在影像区域之一选定像素位置上,喷墨到该列印介质上。8.根据申请专利范围第1项之方法,其中该列印步骤包括由该喷墨孔其中选定一者,在多行该像素位置其中之一内的选定像素位置上,喷墨到该列印介质上,其中该位置上该过渡矩阵之配予相同低限値,其该相邻格室为并列。图式简单说明:第一图为可配合本发明方法使用之列印头及相对于该列印头之一影像区域部分其一示意图;第二图为一于半色列印程序期间使用具有一多色列印头之低限矩阵之范例;第三图、第四图及第五图显示一种界定一过渡矩阵之方法,其藉由于横向中复制第二图之低限矩阵并因此改变横向中像素解析度;及第六图、第七图及第八图显示本发明方法之一实施例,其藉由于横向扩大第二图之过低限矩阵并因此增进横向像素解析度,而界定了一过渡矩阵。
地址 美国