发明名称 |
METHOD AND SYSTEM FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR CRYSTALS USING TEMPERATURE MANAGEMENT |
摘要 |
Beschrieben wird ein Verfahren und ein Temperaturverwaltungs- und Reaktionskammersystem zur Herstellung von Stickstoff enthaltenden Halbleiterkristallmaterialien der Form AXBYCZ, NV, MW, wobei A, B, C Gruppe-II- oder III-Elemente, N Stickstoff, M ein Gruppe-V- oder VI-Element und X, Y, Z, V, W der Molenbruch jedes Elements in dieser Verbindung darstellen, unter Verwendung von Gasphasenzusammensetzungen und Gasphasenfolgen. Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass zur Herstellung der Halbleiterkristallmaterialien der Herstellungsprozess durch genaue Temperaturregelung bestimmter Stellen in dem Reaktionskammersystem unter vorgegebenen Bedingungen gesteuert wird.
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申请公布号 |
WO0032840(A1) |
申请公布日期 |
2000.06.08 |
申请号 |
WO1999DE03863 |
申请日期 |
1999.12.02 |
申请人 |
AIXTRON AG;HEUKEN, MICHAEL;STRAUCH, GERT;PROTZMANN, HARRY;JUERGENSEN, HOLGER;SCHOEN, OLIVER;SCHMITZ, DIETMAR |
发明人 |
HEUKEN, MICHAEL;STRAUCH, GERT;PROTZMANN, HARRY;JUERGENSEN, HOLGER;SCHOEN, OLIVER;SCHMITZ, DIETMAR |
分类号 |
C23C16/34;C23C16/46;C23C16/52;C30B25/10;C30B25/16;H01L21/205;H01L21/318;(IPC1-7):C23C16/46;C23C16/30;C30B25/02;C30B29/40 |
主分类号 |
C23C16/34 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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