| 摘要 |
<p>Bei einem hochaperturigen Projektionsobjektiv (5) der Mikrolithographie wird systematisch auch der Blendenfehler korrigiert, so daß die Pupillenebene wenig gekrümmt ist und das Objektiv ohne Qualitätsverlust abblendbar ist. Bei dem Projektionsobjektiv wird die Systemblende im Bereich der bildseitig letzten Linsengruppe positiver Brechkraft angeordnet. Das Projektionsobjektiv weist bei Abblendung eine stabile bildseitige Telezentrie auf.</p> |
