| 发明名称 |
AGENT DE RETICULATION POUR PHOTORESIST, ET COMPOSITION DE PHOTORESIST COMPRENANT CELUI-CI |
| 摘要 |
<P>L'invention se rapporte à un agent de réticulation et à une composition de photorésist le comprenant.Selon l'invention, l'agent de réticulation de photorésist est un homopolymère ou copolymère d'un monomère d'agent de réticulation comprenant un composé représenté par la Formule Chimique 1. L'invention trouve application dans des procédés de photolithographie utilisant des sources de lumière KrF (248 nm), ArF (180 nm), un faisceau E, un faisceau d'ions ou des UVE. Formule Chimique 1 (CF DESSIN DANS BOPI)</P>
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| 申请公布号 |
FR2786491(A1) |
申请公布日期 |
2000.06.02 |
| 申请号 |
FR19990014920 |
申请日期 |
1999.11.26 |
| 申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES CO LTD |
发明人 |
JUNG JAE CHANG;KONG KEUN KYU;KIM MYOUNG SOO;KIM HYOUNG GI;KIM HYEONG SOO;BAIK KI HO;KIM JIN SOO |
| 分类号 |
H01L21/027;C07C43/303;C07C47/277;C08F16/20;C08F16/38;C08F22/06;C08F32/00;C08F116/38;C08F216/38;C08F220/26;C08K5/00;C08L;G03F7/00;G03F7/004;G03F7/027;G03F7/033;G03F7/038;G03F7/039;H01L;(IPC1-7):C08F16/20 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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