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Ein Projektionsobjektiv, besonders für die Mikrolithographie bei 248 nm oder 193 nm, weist nach zwei Bäuchen und zwei Taillen eine ausgeprägte Linsenanordnung auf, die vorzugsweise eine weitere Taille und stets die Aperturblende (AS) enthält. Dieses ist von der die zweite Taille enthaltenden negativen Linsengruppe (LG4) deutlich abgerückt und von wichtigen Korrekturmitteln umgeben. Höchste numerische Apertur (0,65-0,80) wird bei kleinsten Linsendurchmessern bei Beachtung der für ein derartiges Mikrolithographie-Projektionsobjektiv erforderlichen weiteren Qualitäten erreicht.
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