| 摘要 |
<p>Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Vorrichtung zum Entschichten von Druckschablonen. Das erfindungsgemässe Verfahren umfasst einen Schritt, wobei der auf der Druckschablone haftende Photolack in einem Aufweichungsbad geschwächt und von der Druckschablone gelockert wird, einen Schritt, wobei die Druckschablone mit dem darauf befindlichen aufgeweichten und teilweise abglösten Photolack mit Wasser gespült wird, so dass der aufgeweichte Photolack zwar wieder ausgehärtet, aber nicht wieder an die Schablone befestig wird, und schliesslich einen Schritt, wobei der ausgehärtete, aber teilweise abgelöste Photolack von der Schablone durch einen Hochdruckwasserstrahl entfernt wird, ohne dass die Schablonenoberfläche beschädigt wird. Ein weiterer Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist eine Anordnung zur Entschichtung von zylindrischen Druckschablonen (Rotationsdruckschablonen).</p> |
