| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR PROCESS COMPENSATION UTILIZING NON-UNIFORM ION IMPLANTATION METHODOLOGY |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1002329(A1) |
申请公布日期 |
2000.05.24 |
| 申请号 |
EP19980929014 |
申请日期 |
1998.06.10 |
| 申请人 |
ADVANCED MICRO DEVICES INC. |
发明人 |
SHOPBELL, MARLINE, L. |
| 分类号 |
H01J37/304;H01J37/317;H01L21/265;H01L21/66;(IPC1-7):H01J37/304 |
主分类号 |
H01J37/304 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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