| 发明名称 |
Method and apparatus for processing resist |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG72766(A1) |
申请公布日期 |
2000.05.23 |
| 申请号 |
SG19970003914 |
申请日期 |
1997.10.31 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
AIKMOTO NASAMI;DEGUCHI YOICHI |
| 分类号 |
G03F7/16;G03F7/30;H01L21/00;H01L21/02;H01L21/027;H01L21/68;(IPC1-7):H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/16 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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